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根據(jù)金屬化全過程,在硅襯底上布局一層層僅數(shù)納米技術(shù)厚的金屬材料層。隨后在這里層金屬材料上覆上一層層光刻膠。這層光阻劑在曝i光(通常是紫外光)后能夠 被特殊水溶液(顯影液)融解。使特殊的納米越過光掩膜直射在光刻膠上,能夠 對光刻膠開展可選擇性直射(曝i光)。隨后應(yīng)用前邊提及的顯影液,融解掉被直射的地區(qū),那樣,制版公司,光掩模上的圖型就展現(xiàn)在光刻膠上。一般 還將根據(jù)風(fēng)干對策,改進(jìn)剩下一部分光刻膠的某些特性。所述流程進(jìn)行后,就能夠 對襯底開展可選擇性的刻蝕或離子注入全過程,未被融解的光刻膠將維護(hù)襯底在這種全過程中不被更改。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
薄膜特性和適用用途薄膜特性和適用用途...內(nèi)桶結(jié)構(gòu),-準(zhǔn)確定位;單一光源成像-準(zhǔn)確、均勻和穩(wěn)定的點(diǎn)密度。它可以輸出各種點(diǎn)形狀(圓形點(diǎn)、正方形點(diǎn)、正方形和正方形區(qū)域的混合點(diǎn)等)。)和各種網(wǎng)絡(luò)線路(10-625條線路)。適用于彩色膠印、樹脂版印刷、絲網(wǎng)印刷、移印和轉(zhuǎn)印。
企業(yè)商品包含方解石掩膜版,碳酸鈉掩膜版,及其絲印網(wǎng)版版。蘇州市制板依據(jù)顧客的設(shè)想、手稿,訂制板圖,蘇州市制板出示-掩膜版及其中后期的代理加工服務(wù)項目!內(nèi)別稱光掩模板、掩膜版,英文名字mask或photomask),材料:石英玻璃、金屬鉻和光感應(yīng)膠,制版廠家,該商品是由石英玻璃做為襯底,在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應(yīng)膠,變成這種感光材料,把已設(shè)計構(gòu)思好的電源電路圖型根據(jù)電子器件激光切割設(shè)備曝i光在光感應(yīng)膠上,制版報價,被曝i光的地區(qū)會被顯影出去,制版,在金屬鉻上產(chǎn)生電源電路圖型,變成相近曝i光后的膠片照片的光掩模板,隨后運(yùn)用于對集成電路芯片開展投射i-定位,根據(jù)集成電路芯片光刻技術(shù)對所投射的電源電路開展光蝕刻工藝,其生產(chǎn)制造工藝流程為:曝i光,顯影,去光感應(yīng)膠,終運(yùn)用于光蝕刻工藝。
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