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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
掩膜版:通俗化點(diǎn)了解,等于以往用膠卷沖洗照片時(shí)的膠片照片。膠片照片假如精密度不足,是洗不出去高精相片的。光刻技術(shù)工程施工前,要依據(jù)設(shè)計(jì)構(gòu)思好的集成ic電路原理圖制做掩膜板。掩膜板材料是石英玻璃,制版,夾層玻璃上帶金屬鉻和光感應(yīng)膠。根據(jù)激光器在金屬鉻上繪圖電路原理圖。精密度規(guī)定十分高。鏡片:用鏡片的電子光學(xué)基本原理,將掩膜版上的電路原理圖按占比變小,再用燈源投射的硅片上。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,制版廠家,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
光刻和刻蝕有什么不同?
這2個(gè)詞是半導(dǎo)體材料加工工藝中的關(guān)鍵流程,必須相互配合剖面圖-,i好自身找本半導(dǎo)體材料加工工藝的書看。“光刻”就是指在涂上光刻膠的圓晶(或是叫硅片)頂蓋上事前搞好的光呆板,隨后用紫外光隔著光呆板對(duì)圓晶開展必須時(shí)間的直射;驹砭褪钦f(shuō)運(yùn)用紫外光使一部分光刻膠霉變,便于浸蝕!翱涛g”是光刻后,用浸蝕液將霉變的那一部分光刻膠浸蝕掉(正膠),圓晶表層就-集成電路工藝以及聯(lián)接的圖型。隨后用另這種浸蝕液對(duì)圓晶浸蝕,產(chǎn)生集成電路工藝以及電源電路。
掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外,還廣泛的應(yīng)用與像lcd,pcb等方面。常見的光掩膜的種類有四種,蘇州制版,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分,基板和不透光材料;逋ǔJ歉呒兌,低反射率,低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過(guò)濺射的方法鍍?cè)诓A路胶窦s0.1um的鉻層。
鉻的硬度比玻璃略小,雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。
在刻畫時(shí),采用步進(jìn)機(jī)刻畫(stepper),其中有電子束和激光之分,激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫,制版報(bào)價(jià),邊緣起點(diǎn)5mm,與電子束相比,其弧形更逼真,線寬與間距更小。
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