光刻版-制版廠家-舟山制版

掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像lcd，pcb等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，制版價(jià)格，凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍?cè)诓Ａ�下方厚約0.1um的鉻層。

鉻的硬度比玻璃略小，制版，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

在刻畫時(shí)，采用步進(jìn)機(jī)刻畫(stepper)，其中有電子束和激光之分，激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫，舟山制版，邊緣起點(diǎn)5mm，與電子束相比，其弧形更逼真，線寬與間距更小。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻技術(shù)能夠 說每一構(gòu)件全是技術(shù)含量-，步步重重困難。短板關(guān)鍵集中化在鏡片、掩膜版、燈源、動(dòng)能控制板等。下邊簡(jiǎn)單單詳細(xì)介紹光刻技術(shù)的構(gòu)造和原理：光刻技術(shù)的燈源有：激光器，制版廠家，紫外線、深紫外線、極紫外線。如今優(yōu)i秀技術(shù)性是極紫外線。圖為要以激光器為燈源的光刻技術(shù)簡(jiǎn)單工作中電路原理圖：在生產(chǎn)制造集成ic時(shí)，i先在圓晶（硅芯片）表層涂光感膠，再用光源穿透掩模板（等于集成ic電路圖紙的膠片照片）直射硅片表層，被光源照射的燈光效果膠會(huì)產(chǎn)生反映。自此用特殊有機(jī)i溶劑洗掉被直射或是未被直射的膠，電路原理圖就印到硅片上。