鹽城清洗機(jī)-晶淼半導(dǎo)體 清洗機(jī)-腐蝕清洗機(jī)

單片波清洗機(jī)在配合超稀化學(xué)液體 (ppm級(jí)別)使用后，可用于微小顆粒（小于65nm）去除以及化學(xué)氧化層控制，以替代傳統(tǒng)‘nano spray’清洗技術(shù)，在薄膜沉積后的清洗領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。盛美半導(dǎo)體的-王暉介紹稱 “經(jīng)過不斷優(yōu)化，該清洗機(jī)已于近日通過了韓國集成電路大廠的大生產(chǎn)線工藝評(píng)估，有望成為下一代微小顆粒清洗的主流設(shè)備”。

超聲波槽內(nèi)的超純水通常由純水供應(yīng)系統(tǒng)直接配給，其溫度小于清洗槽內(nèi)的溫度，由于接觸中的傳熱導(dǎo)致槽內(nèi)清洗液在循環(huán)加熱的過程中的溫度控制更困難，從而是出發(fā)低溫報(bào)警的風(fēng)險(xiǎn)增加，對(duì)生產(chǎn)的效率與產(chǎn)品硅片的均有影響。因此需要對(duì)超聲波槽的溫度進(jìn)行控制設(shè)計(jì)，使其可以滿足清洗槽內(nèi)的溫度穩(wěn)定行控制要求。

化學(xué)清洗槽（也叫酸槽/化學(xué)槽），主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子,去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。