去臘清洗機-蘇州晶淼半導體-無錫清洗機

1.一鍵式全自動執(zhí)行清洗和吹干動作，整個過程無需人工-

2.采用彩色觸摸屏作為人機界面，集成操作和錯誤，報警顯示

3.（出水壓力可調(diào)、主電機（清洗，吹干）轉(zhuǎn)速可調(diào)、清洗，吹干時間可調(diào)）針對不同需求

4.不同規(guī)格，適用于3inch～12inch的圓片及qfn芯片，也可針對不同規(guī)格的frame制作臺盤

化學清洗槽（也叫酸槽/化學槽），主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子,去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機臺或parts的，是為了減少partical的。

一種晶圓清洗機的防噴濺裝置，該晶圓清洗機包含一晶圓承載裝置及一圍繞設(shè)置于該晶圓承載裝置的周壁，該晶圓承載裝置包括一承載吸盤，該防噴濺裝置罩設(shè)于該晶圓承載裝置外周圍，該防噴濺裝置包含一屏蔽單元及一驅(qū)動機構(gòu)。屏蔽單元包括一頂端，屏蔽單元可相對于晶圓承載裝置在一收合狀態(tài)及一展開狀態(tài)之間變換。在收合狀態(tài)時，屏蔽單元的頂端與承載吸盤頂-間隔一距離，在展開狀態(tài)時，屏蔽單元的頂端與承載吸盤頂-間隔一第二距離，第二距離大于距離。驅(qū)動機構(gòu)與屏蔽單元相連接用以驅(qū)動屏蔽單元在收合狀態(tài)及展開狀態(tài)之間變換。借此，可將清洗液噴濺的范圍-在屏蔽單元內(nèi)，以防止清洗液噴濺至其它物件。