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湖州真空磁控濺射鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)-至成真空科技

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    2021-8-14

肖先生
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真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能


真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能分析研究,為了獲得性能-的半導(dǎo)體電極al膜,我們通過優(yōu)化工藝參數(shù),制備了一系列性能-的al薄膜。通過理論計(jì)算和性能測試,分析比較了真空鍍膜設(shè)備電子束蒸發(fā)與磁控濺射兩種方法制備al膜的特點(diǎn)。

嚴(yán)格控制發(fā)al膜的厚度是十分重要的,因?yàn)閍l膜的厚度將直接影響al膜的其它性能,從而影響半導(dǎo)體器件的-性。對于高反壓功率管來說,它的工作電壓高,電流大,沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積al膜上電流密度過高,易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件,al層偏薄,則膜的連續(xù)性較差,呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),引起壓焊引線困難,造成不易壓焊或壓焊不牢,從而影響成品率;al層過厚,引起光刻時(shí)圖形看不清,造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。


采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā),行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動,各個(gè)基片在沉積al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的-點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處,各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法,由于沉積電流和靶電壓可以控制,也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制,因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好,并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

附著力反映了al膜與基片之間的相互作用力,也是-器件的重要因素。真空鍍膜設(shè)備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個(gè)數(shù)量級。真空鍍膜機(jī)高能量的濺射原子沉積在基片上進(jìn)行的能量轉(zhuǎn)換比蒸發(fā)原子高得多,產(chǎn)生較高的熱能,部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴(kuò)散層,而且,在真空鍍膜設(shè)備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗,清除了附著力不強(qiáng)的濺射原子,凈化基片表面,增強(qiáng)了濺射原子與基片的附著力,因而濺射al膜與基片的附著力較高。



國內(nèi)真空鍍膜機(jī)械的發(fā)展


我國鍍膜市場一直在擴(kuò)大需求,行業(yè)的高速發(fā)展同時(shí)也帶動真空設(shè)備行業(yè)的發(fā)展速度。每年我國都需要進(jìn)口大量的鍍膜真空設(shè)備,這些設(shè)備工藝技術(shù)比較高,-性強(qiáng),價(jià)錢也非常之高,不可否認(rèn)的是這些設(shè)備-提高了我國部分的鍍膜企業(yè)的生產(chǎn)水平,使之達(dá)到發(fā)達(dá)水平;

國內(nèi)的真空設(shè)備也相對引進(jìn)-技術(shù)取得了-進(jìn)步,真空鍍膜設(shè)備已經(jīng)達(dá)到較高水準(zhǔn),完-夠滿足一般企業(yè)的需求,部分實(shí)力廠家產(chǎn)品更是銷往,譬如匯成真空。

整個(gè)鍍膜行業(yè)被物理和化學(xué)鍍膜占據(jù),他們的發(fā)展左右著我國整個(gè)鍍膜行業(yè)的發(fā)展,而隨著的提倡,化學(xué)鍍膜漸漸減少,物理鍍膜占據(jù)更多江山,鍍膜真空設(shè)備成為了這個(gè)行業(yè)發(fā)展的指標(biāo),政策對設(shè)備的大力支持未來真空設(shè)備的發(fā)展將廣闊。



真空鍍膜機(jī)中電磁控制的發(fā)展


真空鍍膜機(jī)在現(xiàn)在對產(chǎn)品的表面處理上具有的優(yōu)勢還是比較明顯的,這種鍍膜機(jī)械比起其他的表面處理設(shè)備來說,在加工方面,本身是需要在真空的環(huán)境中進(jìn)行的,這樣的鍍膜方式就把外界的一些影響因素給“屏蔽”了,這是這種真空鍍膜機(jī)的一個(gè)優(yōu)勢之處。

而對于真空鍍膜機(jī)械來說,目前的電路的發(fā)展也十分迅速,很多電子化的產(chǎn)品也被運(yùn)用到電路當(dāng)中,也使得這些機(jī)械逐漸發(fā)展成為了電動化、自動化的設(shè)備。

其中濺控濺射鍍膜機(jī)就是比較好的一類代表,作為一種裝置來說,它也是體現(xiàn)出真空鍍膜技術(shù)-手段的代表,利用磁力進(jìn)行控制,通電產(chǎn)生的電磁效用等都對鍍膜技術(shù)進(jìn)行輔助。

可以說是目前表面處理技術(shù)中值得關(guān)注的一類,而電磁控制的鍍膜機(jī)械的產(chǎn)生對現(xiàn)在的鍍膜設(shè)備來說,提高了鍍膜時(shí)候膜層的粒子量,這是這種鍍膜機(jī)械的主要運(yùn)用了。



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