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鍍膜基材鍍鋁薄膜的基材主要是塑料薄膜和紙張。真空蒸鍍工藝對被鍍基材有以下幾點要求:
1)耐熱性好,基材必須-受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物的冷凝潛熱。
2)從薄膜基材上產生的揮發(fā)性物質要少;對吸濕性大的基材,在鍍膜前理。
3)基材應具有一定的強度和表面平滑度。
4)對蒸鍍層的粘接性-;對于pp、pe等非極性材料,蒸鍍前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。常用的薄膜基材有:bopet、bony、bopp、pe、pvc等塑料薄膜和紙張類。塑料薄膜基材中opet、bony、bopp三種基材形成的鍍鋁薄膜,具有-的光澤和粘結力,是-良的鍍鋁薄膜,大量用作包裝材料和印刷中的燙金材料。鍍鋁pe薄膜的光澤度較差,但成本較低,使用也較廣。以紙基材形成的鍍鋁紙,其成本比鍍鋁塑料薄膜低;比鋁箔/紙的復合材料更薄而-;其加工性能好,印刷中不易產生卷曲,不留下折痕等。因此大量取代鋁箔/紙復合材料,用作食品等內包裝材料以及包裝商標材料等。
真空鍍膜機機械泵相關知識
真空鍍膜機機械泵是真空鍍膜機里面很重要的一部分,在整個機體內,啟著-的作用。高真空鍍膜機,連續(xù)鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的設備。其相關組成及各部件:機械泵、增壓泵、油擴散泵、冷凝泵、真空測量系統(tǒng).下面至成鍍膜設備詳細介紹各部分的組成及工作原理。
真空鍍膜機的基本技術要求有哪些?
很多新員工剛入職的時候,說起真空鍍膜機,都認為自己很,但是當問到真空鍍膜機的基本技能要求的時候,知道的人卻很少,今天至成真空小編為大家詳細介紹一下,列舉出真空鍍膜機的基本要求,希望能幫助到大家。
1、設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件(法蘭、密封圈等)的結構形式,應符合gb/t6070的規(guī)定。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管,分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時,應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。
3、如果設備使用的主泵為擴散泵時,應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱。
4、設備的鍍膜室應設有觀察窗,應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。
5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率,提高鍍膜材料的利用率,合理匹配沉積源的功率,合理布置沉積源在真空室體的位置。
6、合理布置加熱裝置,一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。
5、工件架應與真空室體絕緣,工件架的設計應使工件膜層均勻。
8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源,離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置,維持工作穩(wěn)定。
9、真空室接不同電位的各部分絕緣電阻值的大小
蒸發(fā)真空鍍膜機與技術
真空蒸發(fā)真空鍍膜機主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、-的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領域,jtpz多功能鍍膜技術及設備(加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機),針對汽車、摩托車燈具而設計的,在一個真空室內完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜,這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學產品、磁記錄介質、-保護膜;防潮增透膜;防銹抗腐蝕;耐磨增硬膜。用戶選擇在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體在真空室進行前處理(不噴底漆)、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。在abs,pbt,pe,pp,pa66等塑料基體上直接鍍膜,不需噴底漆,也不需噴面漆(不需要投資噴涂設備),在鍍完鋁膜后直接鍍一層保護膜。滴1%naoh溶液10分鐘鋁層不腐蝕,去離子水中浸飽96小時鋁層不脫落。
電鍍設備真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染,消除空間碰撞,提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以-膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。
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