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各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(vlsi)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來,濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,有銀鈀靶材,-地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導(dǎo)體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線。
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為ar氣),磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。







由表面層和-組成的半導(dǎo)電輥;該表面層具有較高的電阻值,由橡膠組合物制成;-具有較低的電阻值,銀鈀靶材廠,由導(dǎo)電橡膠組合物組成。該半導(dǎo)電輥的目的在于通過-地平衡表面層和-的電阻值而獲得-的靜電充電特性。有-使這兩種層的厚度高度準(zhǔn)確。為使兩種層的厚度高度準(zhǔn)確,需要較麻煩的管理,銀鈀靶材,并且生產(chǎn)橡膠輥的成本較高。

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