---材料----材料-沈陽(yáng)東創(chuàng)全心全意

熱壓法：ito靶材的熱壓制作過(guò)程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓，-材料，同時(shí)以1000℃～1600℃進(jìn)行燒結(jié)。熱壓工藝制作過(guò)程所需的成型壓力較小，燒結(jié)溫度較低，燒結(jié)時(shí)間較短。但熱壓法生產(chǎn)的ito靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均勻，從而影響了生產(chǎn)ito薄膜的均勻性，且不能生產(chǎn)大尺寸的靶。

眾所周知，靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如ic制造商．近段時(shí)間致力于低電阻率銅布線的開發(fā)，-材料廠家，預(yù)計(jì)未來(lái)幾年將大幅度取代原來(lái)的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩。另外，近年來(lái)平面顯示器（fpd）大幅度取代原以陰極射線管（crt）為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)．亦將大幅增加ito靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。此外在存儲(chǔ)技術(shù)方面。高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續(xù)增加．這些均導(dǎo)致應(yīng)用產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材的需求發(fā)生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域，以及這些領(lǐng)域靶材發(fā)展的趨勢(shì)。