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在形成金屬晶體時(shí)又可分為同時(shí)進(jìn)行的倆個(gè)過程,結(jié)晶-晶核的生長(zhǎng)和成長(zhǎng)過程。這倆個(gè)過程的速度決定著金屬結(jié)晶的粗細(xì)程度。如果晶核的生成速度較快,而晶粒生成后的成長(zhǎng)速度較慢,則生成的晶核數(shù)目較多,晶粒較細(xì)。反之晶粒就較粗,也就是說,在電鍍過程中當(dāng)晶核的生成速度大于晶核的成長(zhǎng)速度時(shí),鋁合金電鍍,就能獲得結(jié)晶細(xì)致,排列緊密的鍍層,晶核的生成速度大于晶核成長(zhǎng)速度的程度越大,鍍層結(jié)晶越細(xì)致,緊密。
結(jié)晶組織較細(xì)的鍍層,其防護(hù)性能和外觀都較理想。實(shí)踐表明,鋁合金電鍍廠商,提高金屬結(jié)晶時(shí)的陰極化作用超過一定的范圍,會(huì)導(dǎo)致氫氣的大量析出,從而使鍍層變得多孔,粗糙,疏松,燒焦,甚至是粉末狀的,反而下降
真空電鍍:vacuum metalizing,即是物-相沉積(pvd),即在真空下將原子打到靶材表面上達(dá)到鍍膜的目的。早運(yùn)用于光學(xué)鏡片,如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片,后來隨著技術(shù)的改進(jìn),延伸到了唱片、磁盤、光盤、手機(jī)外殼、機(jī)械刀具等材料上的裝飾鍍膜、材料表面改性等。
工藝特點(diǎn)
工藝成本
模具費(fèi)用(無)
單件費(fèi)用(中)
批量生產(chǎn)(中)
典型應(yīng)用
反射涂層;
消費(fèi)電子產(chǎn)品和隔熱板的表面處理;
產(chǎn)量范圍單件到大批量皆可
優(yōu)勢(shì)適合高,高亮和產(chǎn)品表面保護(hù)層
生產(chǎn)效率速度慢,具體取決于設(shè)備內(nèi)靶材存放量,通常為6小時(shí)/周期(包括噴漆工序)
真空鍍鈦技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)詳解
色澤不會(huì)變化的pvd鍍膜也是鍍鈦的主要特點(diǎn)。和傳統(tǒng)的電鍍不同的是,鍍膜硬度較高,同時(shí)可以避免磨檫現(xiàn)象的發(fā)生,無剝落情況,高度防腐,所以pvd鍍膜不銹鋼總是可以很廣泛的被運(yùn)用于眾多的裝飾行業(yè)
氮化鈦是鍍鈦涂層工藝的一種,通常情況下,這種氮化鈦的顏色為金色,精密鋁合金電鍍,氮化鈦不僅-異,且它的硬度還-2300hv,在化工、材料等行業(yè)中運(yùn)用十分廣泛。
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