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為什么會這樣呢?那是因?yàn)殂y分子的連續(xù)性沒有鋁的好,所以在相對膜厚下,它的導(dǎo)電性反而較差。我們真空鍍金屬不導(dǎo)電膜其實(shí)就是利用了某些金屬的分子連續(xù)性差的原理,把它厚度控制在某個(gè)范圍,真空鍍膜加工廠,使其具備銀白色外觀并且電阻-。由此可見,金屬不導(dǎo)電膜的效果跟它的膜厚是直接相關(guān)的。只有在相對應(yīng)的膜厚下,才能得到相應(yīng)穩(wěn)定的銀白色不導(dǎo)電膜。
眾所周知,在某些材料的表面上,真空鍍膜加工價(jià)格,只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、-的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,真空鍍膜加工廠商,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,真空鍍膜加工,同時(shí)還會產(chǎn)生大量的廢液,造成-的污染。因此,這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的-。
行業(yè)內(nèi)通常所說的“ip”(ion plating)離子鍍膜,是因?yàn)樵趐vd技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用,為了強(qiáng)調(diào)離子的作 用,而統(tǒng)稱為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。
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