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一如前述,pvd真空電鍍多少錢,鍍膜在10 –4 torr左右下進(jìn)行,pvd真空電鍍加工,如真空度過低時(shí),其蒸發(fā)中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時(shí)產(chǎn)生的氣體,發(fā)生沖突而冷卻,形成的鋁粒 (非常小的鋁粒子集合體) 會(huì)附著于被鍍膜件上。此時(shí)所形成的鍍膜因微細(xì)鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤,石碣pvd真空電鍍,也會(huì)-降低鍍膜與底油的密著性。
如真空度高,而且鎢絲的溫度亦高時(shí),蒸發(fā)鋁的運(yùn)動(dòng)能量也因此會(huì)提高,被鍍膜件表面所附著的會(huì)是純鋁 (并沒有殘留氣體),而且密度非常高,pvd真空電鍍加工廠,鍍膜性能因此而得到提升 (包括密著性等)
淺析電鍍之后有哪些-情況
1.表面粗糙:指不平整,不光亮的表面,通常成粗白狀
2.沾附異物:指端子表面附著之污物.
3.密著性-:指鍍層有剝落.起皮,起泡等現(xiàn)象.
4.露銅:可清楚看見銅色或黃黑色于低電流處(凹槽處)
5刮傷:指水平線條狀,一般在錫鉛鍍層比較容易發(fā)生.
7壓傷:指不規(guī)則形狀之凹洞
8白霧:指鍍層表面卡一層云霧狀,不光亮但平整
9針i孔:指成群、細(xì)小圓洞狀(似被鐘扎狀)
電鍍工藝的分類與流程說明
真空ip電鍍流程說明。
(1)浸酸。
作用與目的:除去板面氧化物,活化板面,一般濃度在5%~10%左右,主要是防止水分帶入造成槽液-含量不穩(wěn)定。
使用c.p級(jí)-,酸浸時(shí)間不宜太長(zhǎng),防止板面氧化;在使用一段時(shí)間后,酸液出現(xiàn)渾濁或銅含量太高時(shí)應(yīng)及時(shí)更換,防止污染電鍍銅缸和板件表面。
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