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金屬真空鍍膜-泰坦金屬制品有限公司-金屬真空鍍膜加工廠

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    2020-6-21

王總
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眾所周知,在某些材料的表面上,只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、-的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電,使電解液電解,金屬真空鍍膜,被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,金屬真空鍍膜廠,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,金屬真空鍍膜加工廠,同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液,造成-的污染。因此,這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的-。




上面已經(jīng)講到,銀白效果和導(dǎo)電性能好的銀在5納米以下的厚度時(shí),它是不導(dǎo)電的,那么,是不是可以用銀來(lái)做我們需要的金屬不導(dǎo)電膜呢?-是否定的。因?yàn)?納米以下厚度的銀基本上是透明無(wú)色的,盡管它不導(dǎo)電,但它不能同時(shí)具備銀白色反光膜的效果。同樣,鋁也不行。所以,金屬真空鍍膜加工,我們需要一種能夠鍍出銀白色金屬光澤并具有較大的電阻金屬材料。




從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,

以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1~0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類(lèi)型。電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì),電阻加熱源主要用于蒸發(fā)cd、

pb、ag、al、cu、cr、au、ni等材料。高頻感應(yīng)加熱源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。






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