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pvd真空鍍膜-東莞市泰坦金屬制品-pvd真空鍍膜廠家

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    2020-6-21

王總
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真空鍍膜pvd真空鍍膜

什么是真空鍍膜技術(shù)?

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

、鍍膜的方法及分類

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn):可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2pa,對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜要求-的場(chǎng)合,則要求壓力-。




真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn):

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境,以-制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到-中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,pvd真空鍍膜,并消除-中雜質(zhì)的-影響。

(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,pvd真空鍍膜廠家,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),-擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。





  塑料制品表面金屬化后,pvd真空鍍膜廠,應(yīng)用范圍將廣泛。塑料件表面的真空鍍膜可分為功能性鍍膜和裝飾性鍍膜。作為功能性鍍膜,它可-塑料件表面的物理、化學(xué)性質(zhì),如可提高塑料件的尺寸穩(wěn)定性、導(dǎo)電性等;作為裝飾性鍍膜,可使塑料件表-有金屬光澤并可根據(jù)實(shí)際裝飾的需要制作出不同的顏色,如金黃色、古銅色、金屬紅色、金屬綠色、金屬藍(lán)色等,具體可參見(jiàn)樣品展示。

      裝飾性真空鍍膜現(xiàn)已得到了越來(lái)越廣泛的應(yīng)用,與人們的日常生活息息相關(guān)。大到飛機(jī)、汽車,pvd真空鍍膜報(bào)價(jià),小到化裝品、玩具,無(wú)一不有真空鍍膜的烙印。裝飾性真空鍍膜現(xiàn)已得到了越來(lái)越廣泛的應(yīng)用,與人們的日常生活息息相關(guān)。





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