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電子超純水設(shè)備讓電子行業(yè)遇“芯荒”心不慌

電子超純水設(shè)備讓電子行業(yè)遇“芯荒” 心不慌芯片的制造過程很復(fù)雜，從設(shè)計、生產(chǎn)再到封裝和測試，每一步都非常重要。在制造環(huán)節(jié)中要解決的問題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一是電子電子超純水設(shè)備，可用于生產(chǎn)芯片清洗的超純水，而超純水的直接影響到芯片的。電子超純水設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水系統(tǒng)設(shè)備的脫鹽部件為反滲透膜組件、edi系統(tǒng)和拋光混床，超純水系統(tǒng)設(shè)備通常由預(yù)處理部分，反滲透主機部分，后處理部分共同組成�！　‰娮映兯O(shè)備具有抗污染能力強、節(jié)能、產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內(nèi)無死水等優(yōu)勢

edi超純水設(shè)備工作原理

半導(dǎo)體材料是在集成電路、消費電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電等領(lǐng)域進行應(yīng)用的。半導(dǎo)體材料在應(yīng)用中會需要一定量的超純水，可用于清洗，該超純水電阻率達到了18兆歐，唐山純水設(shè)備，不含導(dǎo)電介質(zhì)和金屬離子，可滿足作為半導(dǎo)體清洗用水的需求。采用兩級ro+edi+精混床除鹽水處理工藝，半導(dǎo)體純水設(shè)備，處理后的水質(zhì)可達到18mω.cm以上，符合半導(dǎo)體用水標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備采用如今大熱的膜技術(shù)，可有效去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，以及水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物，設(shè)備的出水純度高，無-與-，不含任何懸浮物、無化學(xué)污染，edi純水設(shè)備，產(chǎn)出的可謂是高品的超純水了

edi超純水設(shè)備電阻率下降原因有哪些？

有機物污染

　　edi純水設(shè)備進水中的有機膠體受到污染，反滲透只能去除相對分子量大于200的有機膠體。如果分子量低于200，它將進入edi超純水設(shè)備。這部分低分子量材料被組件中的陰陽離子交換樹脂吸附在骨架的網(wǎng)格和陰陽離子膜的表面上，edi純水設(shè)備，阻礙了陰陽離子的置換反應(yīng)和水離子穿透陰陽離子膜的速度，導(dǎo)致edi工作性能下降，電阻率下降。

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