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真空磁控陰極濺射法:平板玻璃在具有高真空的真空腔體內(nèi),處在負電壓的兩極間的工作氣體正離子在正交電磁場的作用下飛向陰極,在很短的陰極位降區(qū)內(nèi)獲得很大的能量去迅速轟擊靶材,鏡片真空鍍膜廠商,從而使陰極(靶材)原子飛向玻璃基片--玻璃沉積膜層,濺射出的二次電子(此過程稱γ過程)在電磁場作用下按旋輪線運動參與碰撞電離,鏡片真空鍍膜報價,蟹衍載流子,這樣就能源源不斷地轟擊陰極,提供足夠數(shù)量的正離子,形成的等離子區(qū)使持續(xù)輝光放電,其可以一次完成多層鍍膜,有著的膜層均勻性,的邊緣復(fù)蓋和-的附著力。鍍膜有著優(yōu)于和區(qū)別于其它真空磁控濺射鍍膜機的地方是:它的平面磁控靶上的磁場是由環(huán)形磁鐵產(chǎn)生的,可將半園環(huán)形磁鐵看成是t微扇柱狀磁鐵的組合 。所以,其相應(yīng)點磁標勢較穩(wěn)定,才能生產(chǎn)出均勻牢固的鍍膜層。
釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。近年來在小型馬達、汽車電子,工具、揚聲器、電力工具等方面應(yīng)用發(fā)展很快。但釹鐵硼稀土磁性材料弱點是容易被空氣中的水分及氧氣所腐蝕,因此必須有一個的防護涂層釹鐵硼稀土磁性材料才有使用價值。目前國內(nèi)常用兩種方法進行防護,一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時會影響磁性材料的表磁等特性,有的在鹽霧試驗時仍不能對釹鐵硼磁性材料提供有效的防護。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進行電泳涂敷,但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點,掛點的修補不僅費工費時,而且難以-,而parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進行無支點全涂敷防護。parylene又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料,parylene涂敷稀土磁性材料的技術(shù)和產(chǎn)品,目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用parylene進行防護。
帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段,在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低,成本較高。有效的解決方法是開發(fā)研制高速,鏡片真空鍍膜,穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。
大功率電子的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應(yīng)加熱。它的設(shè)備較簡單,但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要,就必須使用加熱速度快,熔化溫度高的熱源。
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