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濺射靶材ito靶材的生產工藝 ito靶材的生產工藝可以分為3種:熱等靜壓法(hip)、濺射靶材熱壓法(hp)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下:
熱等靜壓法:ito靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體,營口純鈀靶材,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結。熱等靜壓工藝制造產品密度高、物理機械性能好,純鈀靶材工藝,但設備投入高,生產成本高,產品的缺氧率高。







綁定的適用范圍
技術上來說表面平整可進行金屬化處理的靶材都可以用我司銦焊綁定技術綁定銅背靶來提高濺射過程的散熱性、提高靶材利用率。
建議綁定的靶材:
ito、sio2、陶瓷脆性靶材及燒結靶材;
錫、銦等軟金屬靶;
靶材太薄、靶材太貴的情況等。
但下列情況綁定有弊端:
1.熔點低的靶材,純鈀靶材加工,像銦、硒等,金屬化的時候可能會變軟變形;
2.-靶材,純鈀靶材回收,一是實際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料,建議墊一片銅片。

電源供應裝置通過一升降機構安裝在機座上并與控制裝置電連接;所述整體測量機構包括一安裝在機座上的驅動電機、一連接在驅動電機上的傳動軸及一安裝在傳動軸的一端的接地端;所述擇點測量機構包括一安裝在機座上的第二驅動電機、一對安裝在所述第二驅動電機上的第二傳動軸、一安裝在機座上并與所述第二傳動軸平行的滑軌及若干安裝在滑軌上的測點探針。

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