超聲波化學(xué)氣相沉積-拉奇納米-廣州化學(xué)氣相沉積

帶鋼鍍膜-，能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱表面活化，超聲波化學(xué)氣相沉積，鍍膜純度高，沒有中間硬脆的合金層，可以一次沖壓成型，甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。

工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實(shí)現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時(shí)鍍兩種材料達(dá)到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制，而且可以鍍制超薄膜。

真空磁控陰極濺射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔體內(nèi)，化學(xué)氣相沉積加工，處在負(fù)電壓的兩極間的工作氣體正離子在正交電磁場(chǎng)的作用下飛向陰極，在很短的陰極位降區(qū)內(nèi)獲得很大的能量去迅速轟擊靶材，從而使陰極(靶材)原子飛向玻璃基片--玻璃沉積膜層，濺射出的二次電子(此過程稱γ過程)在電磁場(chǎng)作用下按旋輪線運(yùn)動(dòng)參與碰撞電離，蟹衍載流子，這樣就能源源不斷地轟擊陰極，提供足夠數(shù)量的正離子，形成的等離子區(qū)使持續(xù)輝光放電，其可以一次完成多層鍍膜，有著的膜層均勻性，的邊緣復(fù)蓋和-的附著力。鍍膜有著優(yōu)于和區(qū)別于其它真空磁控濺射鍍膜機(jī)的地方是：它的平面磁控靶上的磁場(chǎng)是由環(huán)形磁鐵產(chǎn)生的，廣州化學(xué)氣相沉積，可將半園環(huán)形磁鐵看成是t微扇柱狀磁鐵的組合 。所以，其相應(yīng)點(diǎn)磁標(biāo)勢(shì)較穩(wěn)定，才能生產(chǎn)出均勻牢固的鍍膜層。