本機臺不要放置在陽光直射或環(huán)境溫度過高的地方,環(huán)境溫度是5-35℃,環(huán)境濕度是35%~65%的相對濕度;且要保持放置-期通風-的位置。使用前注意電壓是否正確,僅適用機臺上所標示之電壓,避免電過量,福建硅片除氣裝置,而使電線走火.請勿置于潮濕之場所,請勿直接用水沖洗,以防漏電;
請小心將物品放入機臺,關(guān)上箱門,檢查是否密閉。試驗結(jié)速后,站側(cè)面打開箱門,以免熱氣燙到-。
1、真空除氣裝置,真空除氣爐報價,在抽真空之前放置好產(chǎn)品、關(guān)閉箱室門,然后啟動抽真空,加熱系統(tǒng)持續(xù)不間斷漸熱。真空除氣爐公司,硅片除氣裝置公司,達到設定真空度時,保持加熱并持續(xù)保持真空度,設定工藝完成后,自動停止抽真空,加熱系統(tǒng)關(guān)閉。當進入維持真空模式時,硅片除氣裝置,低于下限的時候自動啟動;(啟動為抽真空、停止為停止真空泵工作、解壓為需要把真空破空)
2、真空度設定操作見操作說明書,用不到的功能禁止調(diào)整。
3、試驗時間完成后,自動破空,破空完成后,方可開門取出產(chǎn)品。
科創(chuàng)鼎新公司生產(chǎn)的高真空除氣爐,真空度可-10-7pa,可用于半導體硅片的除氣以及紅外芯片、氣密性封裝、航空航天芯片等其他電子產(chǎn)品的封裝。
高真空除氣爐特點:
-真空度高;
控溫精度高;
更高的升溫速率;
智能化;
可真空去除產(chǎn)品空洞與氣泡;
降低產(chǎn)品的氧化性;
提高工藝室的潔凈度。
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