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nr9 3000py光刻膠公司-賽米萊德公司

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    2022-3-4

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  • 主營(yíng)產(chǎn)品|光刻膠,負(fù)性光刻膠,透明光刻膠
  • 單位地址| 北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)博興九路2號(hào)院5號(hào)樓2層208
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光刻膠相關(guān)知識(shí)

光刻開(kāi)始于一種稱作光刻膠的感光性液體的應(yīng)用。圖形能被映射到光刻膠上,然后用一個(gè)developer就能做出需要的模板圖案。光刻膠溶液通常被旋轉(zhuǎn)式滴入wafer。如圖2.5所示,wafer被裝到一個(gè)每分鐘能轉(zhuǎn)幾千轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)盤(pán)上。幾滴光刻膠溶液就被滴到旋轉(zhuǎn)中的wafer的中心,nr9 3000py光刻膠,離心力把溶液甩到表面的所有地方。光刻膠溶液黏著在wafer上形成一層均勻的薄膜。多余的溶液從旋轉(zhuǎn)中的wafer上被甩掉。薄膜在幾秒鐘之內(nèi)就縮到它后期的厚度,溶劑很快就蒸發(fā)掉了,nr9 3000py光刻膠公司,wafer上就留下了一薄層光刻膠。然后通過(guò)烘焙去掉后面剩下的溶劑并使光刻膠變硬以便后續(xù)處理。鍍過(guò)膜的wafer對(duì)特定波成的光線很敏感,-是紫外(uv)線。相對(duì)來(lái)說(shuō)他們?nèi)耘f對(duì)其他波長(zhǎng)的,nr9 3000py光刻膠,包括紅,橙和黃光不太敏感。所以大多數(shù)光刻車間有特殊的黃光系統(tǒng)。

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光刻膠的參數(shù)介紹

1.對(duì)比度(contrast)

對(duì)比度指光刻膠從-區(qū)到非-區(qū)過(guò)渡的陡度。 對(duì)比度越好,越容易形成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。

2.粘滯性/黏度 (viscosity)

衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù)。黏度通?梢允褂霉饪棠z中聚合物的固體含量來(lái)控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。

3.抗蝕性(anti-etching)

光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。  

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   光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

1.靈敏度(sensitivity)

靈敏度是衡量光刻膠-速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的-劑量越小。單位:毫焦/平方厘米或mj/cm2。

2.分辨率(resolution)

區(qū)別硅片表-鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸(cd,nr9 3000py光刻膠多少錢(qián),critical dimension)來(lái)衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。

光刻膠的分辨率是一個(gè)綜合指標(biāo),影響該指標(biāo)的因素通常有如下3個(gè)方面:

(1) -系統(tǒng)的分辨率。

(2) 光刻膠的對(duì)比度、膠厚、相對(duì)分子等。一般薄膠容易得到高分辨率圖形。

(3) 前烘、-、顯影、后烘等工藝都會(huì)影響光刻膠的分辨率。  

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