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v概述
:干膜光致抗蝕劑產(chǎn)生于1968年,而在七十年代初發(fā)展起來的i種感光材料,我國于七十
年代中期開始干膜的研制和應(yīng)用,至今已有幾種產(chǎn)品用于印制電路板生產(chǎn),由于干膜具有-的工藝性能、優(yōu)良的成像性和耐化學(xué)-的性能,在圖形電鍍工藝中,它對(duì)于制造精密細(xì)導(dǎo)線、
提高生產(chǎn)率、簡(jiǎn)化工序、-產(chǎn)品等方面起到了其它光致抗蝕劑所起不到的作用。應(yīng)用干膜制造印制板有如下特點(diǎn):
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1.有較高的分辨率,一般線寬可做到0.1mm;
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2.干膜應(yīng)用在圖形電鍍工藝中,電鍍加厚在高而垂直的夾壁問進(jìn)行,在鍍層厚度小于 抗 蝕劑厚度時(shí),河南油量傳感器電阻片,可以防止產(chǎn)生鍍層突延和防止去膜時(shí)抗蝕劑嵌入鍍層下面,-線條精度;
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3.干膜的厚度和組成一致,避免成像時(shí)的不連續(xù)性,-性高;
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4.應(yīng)用干膜,-簡(jiǎn)化了印制板制造工序,有利于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化、自動(dòng)化。
v使用1%無水碳酸鈉溶液,溫度20—25℃,噴淋壓力l一2.5kg/平方里米。顯出點(diǎn)控制在3/4— 2/3處。濕膜進(jìn)入孔內(nèi),需延長顯影時(shí)間。因?yàn)轱@影液溫度和濃度高會(huì)破壞膠膜的表面硬度和
從涂覆到顯影間隔時(shí)間不宜超過48小時(shí)。應(yīng)用于圖形電鍍工藝,顯-需檢查孔內(nèi)是否
v光聚合后的干膜抗蝕層,應(yīng)--化鐵蝕刻液、過-銨蝕刻液、酸性氯
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