進口化學氣相沉積設備-沈陽鵬程公司

icp刻蝕機簡介

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容，進口化學氣相沉積設備廠家，沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產(chǎn)化學氣相沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

一．系統(tǒng)概況

該系統(tǒng)主要用于常規(guī)尺寸樣片（不超過φ6）的刻蝕，可刻蝕的材料主要有sio2、si3n4、多晶硅、

硅、sic、gan、gaas、ito、azo、光刻膠、半導體材料、部分金屬等。設備具有選擇比高、刻

蝕速率快、重復性好等優(yōu)點。具體描述如下：

1.系統(tǒng)采用單室方箱式結(jié)構(gòu)，手動上開蓋結(jié)構(gòu)；

2.真空室組件及配備零部件全部采用鋁材料制造，真空尺寸為400mm×400×197mm，

內(nèi)腔尺寸ф340mm×160mm；

3.-真空度：≤6.6x10-4 pa (經(jīng)烘烤除氣后，采用ff160/600分子泵抽氣)；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 pa.l/s；

系統(tǒng)從-開始抽氣到5.0x10-3 pa，20分鐘可達到（采用分子泵抽氣)；

停泵關機12小時后真空度：≤5 pa；

4.采用樣品在下，噴淋頭在上噴淋式進氣方式；

5.樣品水冷：由循環(huán)水冷水機進行控制；

7.icp頭尺寸：340mm mm，噴淋頭與樣品之間電極間距50mm；

8. 沉積工作真空：1-20pa；

9. 氣路設有勻氣系統(tǒng)，真空室內(nèi)設有-抽氣均勻性抽氣裝置；

10. 射頻電源：2臺頻率 13.56mhz，功率600w，全自動匹配；

11. 6路氣體，進口化學氣相沉積設備價格，共計使用6個流量控制器控制進氣。

氣體：-氣/氧氣/四-碳/六-硫

12. 刻蝕速率

sio2：***0.5μm/min

si：***1μm/min

光刻膠：***1μm/min

13. 刻蝕不均勻性：

優(yōu)于±5%（φ4英寸范圍內(nèi)）

優(yōu)于±6%（φ6英寸范圍內(nèi)）

14. 選擇比

cf4的選擇比為50，