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前面所描述的印法，圖文是以不同色彩的油墨來表現(xiàn)的，但在許多特殊的場(chǎng)合，諸如通訊設(shè)備的面板、尺板、度盤，或在-環(huán)境下所適應(yīng)的有機(jī)玻璃的圖文表示等，網(wǎng)印油墨的墨層有可能會(huì)產(chǎn)生一些弊端，采用色彩蝕刻機(jī)蝕刻的方法，會(huì)有所-。
所謂彩色蝕刻，是指將醇溶性顏料，按不同的比列溶解于有機(jī)玻璃有侵蝕作用的中，使有機(jī)玻璃上的圖文表面溶解，待揮發(fā)后，顏色已與有機(jī)玻璃的圖文表面層溶于一體，具有結(jié)合牢度強(qiáng)、耐磨性、耐候性好的特點(diǎn)。
工藝流程 有機(jī)玻璃清潔處理--噴涂抗蝕刻感光膠---顯影著色-彩色蝕刻-去膠膜--成型--去防所紙--拋光-成品
或許在很多人看來，刻蝕技術(shù)并不如光刻機(jī)那般“”，但刻蝕在芯片的加工和生產(chǎn)過程中同樣不可或缺。刻蝕機(jī)主要工作是按照前段光刻機(jī)“描繪”出來的線路來對(duì)晶片進(jìn)行更深入的微觀雕刻，金屬標(biāo)牌上色機(jī)多少錢，刻出溝槽或接觸孔，然后除去表面的光刻膠，從而形成刻蝕線路圖案。
在芯片制造領(lǐng)域，漯河金屬標(biāo)牌上色機(jī)，光刻機(jī)像是前端，而蝕刻機(jī)就是后端。光刻機(jī)的作用是把電路圖描繪至覆蓋有光刻膠的硅片上，而蝕刻機(jī)的作用就是按照光刻機(jī)描繪的電路圖把硅片上其它不需要的光刻膠腐蝕去除，完成電路圖的雕刻轉(zhuǎn)移至硅片表面。兩者一個(gè)是設(shè)計(jì)者，一個(gè)是執(zhí)行者，整個(gè)芯片生產(chǎn)過程中，需要重復(fù)使用兩種設(shè)備，直至將完整的電路圖蝕刻到硅晶圓上為止。
目前，我國(guó)在蝕刻機(jī)領(lǐng)域已達(dá)到-水平，尤其是中微半導(dǎo)體成功突破研制的5nm蝕刻機(jī)已于其它企業(yè)，而且得到了臺(tái)積電的驗(yàn)證。真正面臨技術(shù)挑戰(zhàn)，金屬標(biāo)牌上色機(jī)，也是被卡脖子的領(lǐng)域是光刻機(jī)。不過日前中科院-白春禮表示，已將光刻機(jī)等技術(shù)難度較高的產(chǎn)品列入科研清單，未來將集中力量對(duì)這些“卡脖子”的技術(shù)進(jìn)行攻關(guān)。相信未來光刻機(jī)技術(shù)也會(huì)實(shí)現(xiàn)重大突破。
國(guó)內(nèi)生產(chǎn)刻蝕機(jī)水平高的企業(yè)為中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司（這家同樣是有國(guó)資背景的企業(yè)，前兩大股東也是國(guó)有企業(yè)，所以有人說我國(guó)光刻機(jī)沒發(fā)展起來是因?yàn)閲?guó)企的原因，這是不對(duì)的，中微半導(dǎo)體也可以說是國(guó)企，但是刻蝕機(jī)的技術(shù)水平是水平的。國(guó)內(nèi)刻蝕機(jī)的發(fā)展離不開尹志堯?yàn)榇淼膸资缓w技術(shù)。尹志堯曾經(jīng)擔(dān)任應(yīng)用材料的公司副總裁（應(yīng)用材料是半導(dǎo)體設(shè)備廠商老大），參與-幾代等離子體刻蝕設(shè)備的開發(fā)，在美國(guó)工作時(shí)就持有86項(xiàng)。2004年回來之后，牽頭設(shè)立了中微半導(dǎo)體公司，尹志堯等人重新投入研發(fā)刻蝕機(jī)，僅僅用了3年的時(shí)間就做出了的刻蝕機(jī)，為此美-無法接受，還-了中微半導(dǎo)體-，但是終的驗(yàn)證結(jié)果是沒有任何的-。（這才是中微半導(dǎo)體比上海微電子發(fā)展快的原因，畢竟上海微電子的沒有人才在荷蘭的asml工作過，也許正是因?yàn)檫@件事，所以美國(guó)現(xiàn)在禁止asml招聘的員工）。我國(guó)的刻蝕機(jī)技術(shù)位于，中微半導(dǎo)體的介質(zhì)刻蝕機(jī)贏進(jìn)入臺(tái)積電7nm、10nm的生產(chǎn)線，中微半導(dǎo)體的刻蝕機(jī)制造工藝達(dá)到了5nm，已經(jīng)通過了臺(tái)積電的驗(yàn)證
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