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以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供,今天我們來分享光刻膠的相關(guān)內(nèi)容,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助!
光刻開始于-種稱作光刻膠的感光性液體的應(yīng)用。 圖形能被映射到光刻膠上,然后用一個developer就能做出需要的模板圖案。 光刻膠又稱光致抗蝕劑,以智能管感光材料,在光的照射與溶解度發(fā)生變化。
光刻膠成份
光刻膠通常有三種成分:感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時還包括增感劑。根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的性可以分為兩類:負(fù)性光刻膠和正性光刻膠。
1、負(fù)性光刻膠
主要有聚酯膠和環(huán)化橡膠系兩大類,nr9 8000光刻膠報價,前者以柯達(dá)公司的kpr為代表,后者以omr系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以-醌為感光化合物,以酚醛樹脂為基體材料。常用的有az- 1350系列。正膠的主要優(yōu)點是分辨率高,nr9 8000光刻膠,缺點是靈敏度、而刻蝕性和附著性等較差。
光刻膠的特點
1、在光的照射下溶解速率發(fā)生變化,利用-區(qū)與非-區(qū)的溶解速率差來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移;
2、溶解抑制/溶解促進(jìn)共同作用;
3、作用的機(jī)理因光刻膠膠類型不同而不同;
正性光刻膠和負(fù)性光刻膠
光刻膠可依據(jù)不同的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行分類。按照化學(xué)反應(yīng)和顯影的原理,光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。如果顯影時未-部分溶解于顯影液,形成的圖形與掩膜版相反,稱為負(fù)性光刻膠;如果顯影時-部分溶解于顯影液,形成的圖形與掩膜版相同,稱為正性光刻膠。
在實際運用過程中,由于負(fù)性光刻膠在顯影時容易發(fā)生變形和膨脹的情況,一般情況下分辨率只能達(dá)到 2 微米,nr9 8000光刻膠哪里有,因此正性光刻膠的應(yīng)用更為廣泛。
光刻是整個集成電路制造過程中耗時長、難度大的工藝,nr9 8000光刻膠,耗時占ic制造50%左右,成本約占ic生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過程重要的耗材,光刻膠的對光刻工藝有著重要影響。
光刻是將圖形由掩膜版上轉(zhuǎn)移到硅片上,為后續(xù)的刻蝕步驟作準(zhǔn)備。在光刻過程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經(jīng)紫外線-后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在通過顯-,被-的光刻膠將被去除,從而實現(xiàn)將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上。再經(jīng)過刻蝕過程,實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。在刻蝕過程中,光刻膠起防腐蝕的保護(hù)作用。
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