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真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?
真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高,鍍餐具,鍍家居,鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術,離子鍍膜技術不僅僅在國內受-,國外也是一樣受喜愛。那么,真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?下面至成小編為大家詳細介紹一下:
離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下,采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā),利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離,在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下,蒸發(fā)物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式,構成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。
真空鍍膜機pvd涂層技術有哪些優(yōu)點
真空鍍膜機pvd涂層技術適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質合金工具,那么它有哪些優(yōu)點和特點呢?下面至成小編為大家詳細介紹一下:
(1)pvd膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質合金上,對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應-行化學電鍍鉻,然后才適合鍍pvd,但是水鍍后做pvd容易起泡,-率較高;
(2)典型的pvd涂層加工溫度在250℃~450℃之間;
(3)涂層種類和厚度決定工藝時間,一般工藝時間為3~6小時;
(4)pvd鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工;
(5)pvd技術不僅提高了鍍膜與基體材料的結合強度,涂層成分也由tin發(fā)展為tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta-c等多元復合涂層,形成不同的顏色的表面效果。
(6)目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數(shù),可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。
光學真空鍍膜機鍍膜技術和裝備
光學真空鍍膜機給人感覺,遙不可及,但是現(xiàn)如今光學鍍膜機在市場上使用非常廣泛了,也得到了很多廠商的-和喜愛。今天至成小編為大家講解一下關于光學鍍膜相關的知識。光學薄膜是現(xiàn)代光學和光電系統(tǒng)重要的組成部分,在光通信、光學顯示、激光加工、激光核聚變等-及產業(yè)領域已經(jīng)成為-元器件,其技術突破常常成為現(xiàn)代光學及光電系統(tǒng)加速發(fā)展的主因。光學薄膜的技術性能和-性,直接影響到應用系統(tǒng)的性能、-性及成本。隨著行業(yè)的不斷發(fā)展,精密光學系統(tǒng)對光學薄膜的光譜控制能力和精度要求越來越高,而消費電子對光學薄膜器件的需求-調-的量產規(guī)模和普通大眾的易用和舒適性。
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