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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司是國(guó)內(nèi)早使用和開發(fā)icp光譜儀和icp-ms的科研單位之一,依托鋼鐵材料測(cè)試中心,培育了一批icp光譜儀和icp-ms應(yīng)用和儀器。icp光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)gb/t 36244-2018和icp-ms儀器計(jì)量檢定規(guī)程gb/t 34826-2017的起草單位。重大科學(xué)儀器專項(xiàng)
立電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定化妝品中37種元素的檢測(cè)方法,根據(jù)化妝品不同基質(zhì),選用-微波消解體系或-濕法消解體系,采用在線內(nèi)標(biāo)及碰撞反應(yīng)池技術(shù)校正機(jī)體效應(yīng),外標(biāo)法
定量進(jìn)行icp-ms測(cè)定。方法檢出限1 ~ 80瞄/kg,電感耦合等離子體光譜儀報(bào)價(jià),線性相關(guān)系數(shù)均大于0.997, rsd為1.0% - 8.9%, 加標(biāo)回收率為81.3% ~ 115.2%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該方法簡(jiǎn)便、快速、靈敏度高、準(zhǔn)確性好,適用于化妝
鋼研納克國(guó)產(chǎn)icp-ms具有多元素同時(shí)檢測(cè)的優(yōu)勢(shì),靈敏度高、 線性范圍寬,既適用于樣品中痕量元素的檢測(cè)也能同時(shí)滿足微量元素的測(cè)定。icp-ms分析中干擾問(wèn)題是影響分析 結(jié)果準(zhǔn)確度和精密度的障礙,其主要的干擾方式分為質(zhì)譜干擾、基體干擾和物理效應(yīng)干擾三大類。質(zhì)譜干擾
可通過(guò)選擇合適的同位素離子及儀器校正消除;物理干擾可通過(guò)清洗霧化室,電感耦合等離子體光譜儀,進(jìn)樣錐及進(jìn)樣管路消除;基體干擾 是指復(fù)雜的基體引起的icp平衡的轉(zhuǎn)變,對(duì)待側(cè)元素的質(zhì)譜信號(hào)產(chǎn)生抑制或增應(yīng),可采用加入內(nèi)標(biāo)元素校正
和采用碰撞/反應(yīng)池技術(shù)消除。針對(duì)化妝品的不同劑型,應(yīng)用微波消解和濕法消解體系,建立了電感耦合等離子體 質(zhì)譜對(duì)8類化妝品中37種元素的測(cè)定方法,為化妝品中重金屬及其他有害元素的監(jiān)測(cè)提供了技術(shù)支持。
選擇干擾小且豐度高的同位素。在icp-ms分析過(guò)程中,分析信號(hào)會(huì)隨時(shí)間而發(fā)生漂移,而且化妝品樣品在分
析時(shí)的基體效應(yīng)明顯,電感耦合等離子體光譜儀多少錢,被測(cè)物信號(hào)會(huì)出現(xiàn)抑制或增應(yīng),使用內(nèi)標(biāo)元素,可以有效補(bǔ)償信號(hào)漂移和基體效應(yīng)。 內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)選擇和目標(biāo)元素性質(zhì)相近、待側(cè)試樣不含有且不會(huì)對(duì)目標(biāo)元素測(cè)定產(chǎn)生干擾的元素,常用的內(nèi)標(biāo)元素
為自然界中很少存在的元素,如:銃、釔、銠、錮、錸等,在化妝品樣品測(cè)試過(guò)程中,電感耦合等離子體光譜儀廠家,發(fā)現(xiàn)樣品中經(jīng)常含有銃、 釔等元素,因此選用銠、錸為內(nèi)標(biāo)元素。在內(nèi)標(biāo)液配置過(guò)程中,可加入適量(濃度小于5%)等, 起基體匹配的作用,使待測(cè)結(jié)果。各待測(cè)同位素的選擇,分子離子的干擾情況和內(nèi)標(biāo)元素的選擇見(jiàn)表2。
本文建立的電感耦合等離子體質(zhì)譜法能滿足化妝品中37種元素定量檢測(cè)的各項(xiàng)技術(shù)要求,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:方法具有簡(jiǎn)便、準(zhǔn)確、快速的特點(diǎn),具有-的精密度和回收率,適合于化妝品中多元素的同時(shí)測(cè)定。
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