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- 主營產(chǎn)品|真空鍍膜設(shè)備,pvd中頻離子鍍膜機(jī),真空電鍍設(shè)備
- 單位地址| 東莞市萬江區(qū)流涌尾工業(yè)區(qū)汾溪路450號
pvd鍍膜膜層的特點,采用pvd鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、-的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。pvd鍍膜能夠鍍出的膜層種類,pvd鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。pvd鍍膜膜層的厚度—pvd鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。
切削工具真空鍍膜機(jī)
切削工具真空鍍膜機(jī)可以提高工具的切削速度和給刀量，降低加工的時間和成本，更長的使用壽命降低了工具更換的成本，涂層具備的熱穩(wěn)定性、熱硬度和能力、低摩擦系數(shù)和低粘附傾向。真空鍍室的真空密封和室內(nèi)運動部件的設(shè)計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，-足夠等離子體密度和反應(yīng)活性，提高膜層致密性和結(jié)合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。
什么是鍍膜機(jī)鍍膜的均勻性
均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。在光學(xué)薄膜的尺度上看，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)。原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10a甚至1a的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在對于多弧離子鍍膜機(jī)的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，那么實際表面的組分并不是sitio3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。對于晶格有序度的均勻性，這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的-問題
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