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用于cmp的拋光墊必須具有-的化學(xué)穩(wěn)定性(耐腐蝕性)、親水性以及機(jī)械力學(xué)特性。拋光墊通?煞譃橛操|(zhì)和軟質(zhì)(彈性、粘彈性)兩種。
硬質(zhì)拋光墊可較好地-工件表面的平面度
軟質(zhì)拋光墊可獲得加工變質(zhì)層和表面粗糙度都很小的拋光表面
用于cmp過程的硬質(zhì)拋光墊有各種粗布墊、纖維織物墊、聚乙烯墊等,軟質(zhì)拋光墊主要有聚氨酯墊、細(xì)毛氈墊、各種絨毛布墊等。拋光皮
傳統(tǒng)的機(jī)械拋光中。通常會出現(xiàn)產(chǎn)品損耗的情況發(fā)生,而且這種情況也不少數(shù)發(fā)生,有些是人為照成,有些是設(shè)備,拋光白革廠商,壞的結(jié)果可能是產(chǎn)品出現(xiàn)報(bào)廢的情況發(fā)生,那么我們是否有方法能夠解決這個問題呢,肇慶拋光白革,下面就介紹一種方法給大家,但是此方法并不適合趕效率的產(chǎn)品使用,因?yàn)榇朔椒ǖ墓ぷ餍适欠浅5偷,下面將此方法簡訴給大家看看,
磨料相對工件的硬度對磨料的作用機(jī)制有著重要影響。當(dāng)磨粒硬度相對工件太大時, 在拋光壓力作用下很容易導(dǎo)致磨粒嵌入工件表面,在拋光表面殘留劃
痕磨蝕坑;磨粒硬度相對于工件太小時,又會延長加工時間。研究表明拋光過程中納米磨料所發(fā)生的自身變形量與磨料的硬度成反比,硬度低的納米磨
料由于自身變形量大,切入工件的-小,工件拋光表面粗糙度低。
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