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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過(guò)率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用-，主要用于掩膜版

蘇達(dá)掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過(guò)率較高，熱膨脹率相對(duì)高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對(duì)弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版

光刻工藝

是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用-和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過(guò)刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進(jìn)式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術(shù).

光刻板的應(yīng)用光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件，集成電路制造過(guò)程中

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，制版公司，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，南通制版，通過(guò)類似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備，其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程。

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