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沈陽鵬程真空技術有限責任公司提供激光脈沖沉積設備廠家-激光脈沖沉積設備-沈陽鵬程真空技術。

常規(guī)沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統(tǒng)特點及優(yōu)勢：

可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供-技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續(xù)，激光脈沖沉積設備廠家，交貨期短，-；

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pld450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——脈沖激光沉積供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?/p>

主要用途：　　

用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備�！　�

系統(tǒng)組成:　　

主要由濺射真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。　　

pld 主要選件

離子輔助沉積 (ibad)系統(tǒng)介紹

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無規(guī)取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。neocera 開發(fā)了離子輔助的pld 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將pld 在沉積復雜材料方面的優(yōu)勢與ibad 能力結合在一起。

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