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為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。次數(shù)用完api key 超過次數(shù)-

在ji小空間的電流密度-，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度-l05a／cm2～107a／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，-性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增-轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。次數(shù)用完api key 超過次數(shù)-

離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能噴涂的塑膠材料都能實(shí)現(xiàn)真空鍍，如abs，p，pmma，家具鍍鈦廠家服務(wù)電話，pet，ps等。真空鍍表面顏色不受-，通過鍍不同的金屬體現(xiàn)不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，鋁，鎳等來實(shí)現(xiàn)金色，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來遮擋不需要電鍍的區(qū)域。次數(shù)用完api key 超過次數(shù)-

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