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光掩膜是刻有微電路的版,由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成,蝕刻后的殘留鉻部分即為設(shè)計(jì)的微電圖。這種制版方式在掩膜行業(yè)稱為光透。
半導(dǎo)體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻襲工藝,在半導(dǎo)體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導(dǎo)電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套(幾塊zhidao多至十幾塊)相互間能套準(zhǔn)的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
光刻(英語:photolithography)是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟,該步驟利用-和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),制版廠家,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、sos中的藍(lán)寶石。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,制版價(jià)格,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
烤版時(shí)還要注意:烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列,如縱向排列,往往導(dǎo)致印版瓦楞狀變形而影響使用。烤版膠濃度要合適,如烤版膠太稠,無錫制版,烤版效果和上墨效果也不會令人滿意;如烤版膠太稀,烤出的版容易上臟?景鏈囟炔荒苓^高,溫度過高也會導(dǎo)致鋁版基韌化和發(fā)軟,樹脂層焦化,影響耐印力?景鏁r(shí)間太長易導(dǎo)致印版上臟,烤版時(shí)間太短達(dá)不到烤版的效果?瓷先ブ瓢婀に嚥皇翘珡(fù)雜,但要想制作出合格的印版,確實(shí)需要操作人員用心曬版,用心加工印版。
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