麗水光刻板-光刻板

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為mask reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過-過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

1） 繪制生成設備可以識別的掩膜版版圖文件（gds格式）2） 使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式-（-波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學反應3） 經(jīng)過顯影、定-，-區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層4） 使用鉻刻蝕液進行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。5） 在有-的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進行清洗。