真空鍍膜加工-泰坦金屬-不銹鋼真空鍍膜加工

從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，

以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀，通以電流，加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)，電阻加熱源主要用于蒸發(fā)cd、

pb、ag、al、cu、cr、au、ni等材料。高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，塑膠真空鍍膜加工廠，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

在真空中制備膜層，不銹鋼真空鍍膜加工，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，真空鍍膜加工，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法zui早由m.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。