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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
在刻畫時(shí),采用步進(jìn)機(jī)刻畫(stepper),其中有電子束和激光之分,激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫,制版價(jià)格,邊緣起點(diǎn)5mm,與電子束相比,其弧形更逼真,線寬與間距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有稱為中間掩膜,reticle作為單位譯為光柵),用步進(jìn)機(jī)重復(fù)將比例縮小到master maks上,應(yīng)用到實(shí)際-中的為工作掩膜(working mask),制版公司,工作掩膜由master mask復(fù)
掩膜版是對(duì)勻膠鉻版經(jīng)過光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過光刻制版工藝,太倉制版,將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。
根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
光刻版在使用過程中不可避免的會(huì)粘上灰塵、光刻膠等污染物,這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了-光刻版潔凈,必須定期對(duì)光刻版進(jìn)行清洗,而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。
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