|
¥來(lái)電咨詢
含硅光刻膠
為了避免光刻膠線條的倒塌,線寬越小的光刻工藝,就要求光刻膠的厚度越薄。在20NM技術(shù)節(jié)點(diǎn),光刻膠的厚度已經(jīng)減少到了100NM左右。但是薄光刻膠不能有效的阻擋等離子體對(duì)襯底的刻蝕 [2] 。為此,研發(fā)了含SI的光刻膠,這種含SI光刻膠被旋涂在一層較厚的聚合物材料(常被稱作UNDERLAYER),其對(duì)光是不敏感的。-顯-,利用氧等離子體刻蝕,把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到UNDERLAYER上,在氧等離子體刻蝕條件下,含SI的光刻膠刻蝕速率遠(yuǎn)小于UNDERLAYER,具有較高的刻蝕選擇性 [2] 。含有SI的光刻膠是使用分子結(jié)構(gòu)中有SI的有機(jī)材料合成的,例如硅氧烷,含SI的樹脂等
光刻膠的概述
光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。
光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)-后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過(guò)顯-被溶解,只留下未受光照的部分形成圖形;而負(fù)膠卻恰恰相反,經(jīng)過(guò)-后,受到光照的部分會(huì)變得不易溶解,經(jīng)過(guò)顯-,留下光照部分形成圖形。
負(fù)膠在光刻工藝上應(yīng)用早,其工藝成本低、產(chǎn)量高,彩色光刻膠,但由于它吸收顯影液后會(huì)膨脹,導(dǎo)致其分辨率(即光刻工藝中所能形成圖形)不如正膠,因此對(duì)于亞微米甚至更小尺寸的加工技術(shù),主要使用正膠作為光刻膠。
光刻膠定義
光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外-或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為RESIST,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(IC),封裝(PACKAGING),微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),光電子器件光子器件(OPTOELECTRONICS/PHOTONICS),平板顯示器(LED,LCD,OLED),彩色光刻膠哪里有,太陽(yáng)能光伏(SOLAR PV)等領(lǐng)域。
期望大家在選購(gòu)光刻膠時(shí)多一份細(xì)心,少一份浮躁,不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問。想要了解更多光刻膠的相關(guān),歡迎撥打圖片上的熱線電話。。
北京
上海
天津
重慶
河北
山西
內(nèi)蒙古
遼寧
吉林
黑龍江
江蘇
浙江
安徽
福建
江西
山東
河南
湖北
湖南
廣東
廣西
海南
四川
貴州
云南
西藏
陜西
甘肅
青海
寧夏
新疆
本站圖片和信息均為用戶自行發(fā)布,用戶上傳發(fā)布的圖片或文章如侵犯了您的合法權(quán)益,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們將及時(shí)處理,共同維護(hù)誠(chéng)信公平網(wǎng)絡(luò)環(huán)境!
ICP備案:滇ICP備13003982號(hào)
滇公網(wǎng)安備 53011202000392號(hào)
信息侵權(quán)/舉報(bào)/投訴處理
版權(quán)所有 ©100招商網(wǎng) 防騙須知 緩存時(shí)間:2026/4/10 8:50:12