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半導體設備在工藝過程中會產生反應熱或其他介質輻射、傳導的熱量。為-工藝穩(wěn)定或安全考慮會選擇對腔體進行一定的溫度控
制。水因獲得容易,成本低,對環(huán)境無污染,超聲波清洗機,換熱率-優(yōu)點。通常用作加熱或冷卻的流體介質。以往的腔體水路多采用銅管或鋼管等通過導熱膠與腔體粘接。由于存在管壁材料、粘接材料及空氣夾層等多層介質間的熱傳導,換熱效率較低。在加工能力提升的今天,逐漸更改為采用機加工或焊接等方式實現(xiàn)的流體介質直接與腔體接觸的水路方案。但在換熱效率提高的同時也帶來了新的問題。
清洗設備主要由耐腐蝕機架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制單元、 排風單元以及氣體和液體管路單元等幾大部分構成。其中酸槽和管路單元是清洗設備的主要組成部分。 按照材料的差異,蘇州清洗機, 槽體可分為用不銹鋼材質的生產的槽、 用npp 材質生產的抗腐蝕的槽、 用pvdf材質生產的槽、 用ptfe材質生產的槽、 用石英材質生產的槽等, 按照功能的差異槽體又可分為酸堿刻蝕槽、 溢流清洗槽、 快速排水槽和使晶圓快速干燥的干燥槽等, 根據(jù)清洗工藝要求的不同, 還可以增加腐蝕液的超聲及兆聲清洗、 腐蝕液加熱或制冷、攪拌、 循環(huán)及去離子水加熱等清洗功能
腐蝕機適用于半導體工藝中對硅片周邊進行濕法化學腐蝕形成均勻一致的斜角,本設備技術-,適用于規(guī)模生產。本設備是由電氣控制、機架、箱體、槽體、管路、等部分組成。槽體是由去離子水洗槽、酸槽、堿槽構成。硅片腐蝕機管路部分為-工作介質的潔凈和避免雜質析出,腐蝕清洗機,特采用進口氣動閥、pfa、pvdf、管道,-循環(huán)系統(tǒng)。除裝片和取片外,其余工藝均可自動完成。電控部分:人機界面為觸摸屏,方便美觀。
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