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薄膜材料是指厚度介于單原子到幾毫米間的薄金屬或有機(jī)物層。電子半導(dǎo)體功能器件和光學(xué)鍍膜是薄膜技術(shù)的主要應(yīng)用。

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等傾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的兩種典型形式。

由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而產(chǎn)生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介質(zhì)形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、兩片玻璃間所夾的空氣膜、照相機(jī)鏡頭上所鍍的介質(zhì)膜等．比較簡(jiǎn)單的簿膜干涉有兩種，一種稱做等厚干涉，這是由平行光入射到厚度變化均勻、折射率均勻的薄膜上、下表面而形成的干涉條紋．薄膜厚度相同的地方形成同條干涉條紋 復(fù)合包裝材料，故稱等厚干涉．牛頓環(huán)和楔形平板干涉都屬等厚干涉．另一種稱做等傾干涉．當(dāng)不同傾角的光入射到折射率均勻，上、下表面平行的薄膜上時(shí)，同一傾角的光經(jīng)上、下表面反射（或折射）后相遇形成同一條干涉條紋，不同的干涉明紋或暗紋對(duì)應(yīng)不同的傾角，這種干涉稱做等傾干涉．等傾干涉一般采用擴(kuò)展光源，并通過透鏡觀察。

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