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真空電鍍的有哪些共同點(diǎn)？ 

 真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、離子鍍和濺射鍍這3種類型。首先這3種電鍍都是在真空條件下進(jìn)行的 惠陽真空鍍膜，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，同時(shí)通過真空電鍍可以得到非常薄的表面鍍層，并且具有速度快附著力好的-優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高 惠州真空鍍膜，可以進(jìn)行真空電鍍操作的金屬類型較少 led真空鍍膜，一般用來作較-產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。

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1>; 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um)，能夠嚴(yán)格-出啤件表面的形狀2>; 工作電壓不是-(200v)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒3>; 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒4>; 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒5>; 對(duì)鍍件表面要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷﹒6>; 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕abs﹑pe﹑pp﹑pvc﹑pa﹑pc﹑pmma等

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