pvd純離子(pic)涂層設備

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純離子鍍膜pic（pure ions coating）技術是純離子電弧真空鍍膜的簡稱，是在普通離子鍍的基礎上發(fā)展起來的一種pvd(physical vapor deposition)方式涂層技術，其配有-的電磁過濾和掃描系統(tǒng)，可將離子源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%，并且可以過濾掉大顆粒，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強，是真空鍍膜的技術。 純離子涂層技術與其他真空鍍膜技術相比的優(yōu)點： 1、靶材激發(fā)的離子束能量和方向可調，薄膜有-的均勻性和重復性，并且可以進行大面積鍍膜，這是其他類似技術所達不到的；
2、純離子鍍膜技術還包含陽極/陰極區(qū)域復雜的電磁場設置，陰極和陽極尺寸可調，-輸出等離子為束狀。這點對大面積高沉積率鍍膜尤為重要；
3、純離子鍍膜技術是低溫工藝，鍍膜過程可以控制在70°c以下。鍍膜過程中既不需要高溫也不會產(chǎn)生高溫。因此可以應用于各種低溫熔解的基材上，如：塑料，橡膠等；
4、純離子鍍膜技術產(chǎn)生少得多的膜層顆粒。例如dlc膜，相較其他類似技術的每平方厘米約103個，純離子鍍膜技術的鍍膜每平方厘米僅含有約1個宏觀顆粒；
5、作為pic重要應用之一的類金剛石dlc鍍膜，膜層可以達到85%以上的（金剛石鍵）sp3鍵，其物理化學性質和金剛石極其類似，薄膜具有-的硬度(>75 gpa)，極低的摩擦系數(shù)(< 0.1),耐腐蝕性，光學透明度等一系列優(yōu)異特征。在高精加工，高精軸承，沖壓模具，-是高精相機鏡頭沖壓等方面顯示出獨到的優(yōu)勢。
純離子類金剛石dlc薄膜可以使高精鉆頭壽命可延長5-10倍；高精相機鏡頭模具壽命可延長7-10倍；在諸多環(huán)境-領域，純離子dlc薄膜以其上述物理化學性質將發(fā)揮的優(yōu)勢。 一句話概括，純離子鍍膜能過濾掉等離子體中的宏觀粒子、離子團，能實現(xiàn)100%帶電離子鍍膜，所以在均勻性，致密性，結合度，改變物質表面結構和消除薄膜顆粒等方面取得-式的突破。 純離子電弧真空鍍膜技術，可以在金屬、金屬化合物、非金屬、非金屬化合物或者半導體等基體上進行鍍膜，鍍層可以是金屬、金屬化合物、非金屬、非金屬化合物膜，既可鍍單一鍍層，也可鍍復合鍍層，還可以鍍梯度鍍層和納米多層鍍層。采用不同的膜材、不同的反應氣體以及不同的工藝方法和參數(shù)，可以獲得表面強化的硬質耐磨鍍層、致密且化學性質穩(wěn)定的耐蝕鍍層、固體潤滑鍍層、各種色澤的裝飾鍍層以及電子學、光學、能源科學等所需的特殊功能鍍層。尤其離子鍍硬質耐磨鍍層作為超硬抗磨損保護膜廣泛應用于刀具、膜具、抗磨零件。因此，真空離子鍍膜的應用范圍非常廣泛，而常用到的膜系包括tin、zrn、tiain、tic、ticn、crn、ai2o3等。還有更堅硬的類金剛石（dlc）、tib2和碳氮（cnx）膜。具體應用在各種材料表面處理、航空及其他工業(yè)(航空發(fā)動機、高速運轉軸承)、-汽車工業(yè)（發(fā)動機、高速運轉軸承）、精密光學行業(yè)（光學企業(yè)、照相-機企業(yè)等)、高精機械加工行業(yè)（刀具、模具、精密機械零部件等)、太陽能/半導體行業(yè)（半導體/光伏企業(yè)及太陽能集熱器企業(yè)）、消費電子及電子元器件（觸屏、電腦制造企業(yè)等）、科研單位（研究所及大學實驗室等）。

李偉 （振華真空）


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