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真空技術(shù)中的概念（三）

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2、氣體分子的入射頻率　　氣體分子在單位時間和單位面積內(nèi)碰撞固體表面的數(shù)量稱之為入射頻率。入射頻率r和壓強(qiáng)p[pa]、氣體相對分子mr、溫度t[k]之間的關(guān)系表示為

r=2.6×10-24 p/(mrt)1/2[個/(m2·s)] (1-6)

　　即入射頻率和壓強(qiáng)成正比例、和氣體相對分子平方根及溫度的平方根成反比例關(guān)系。

　　在真空度為10-4 pa的情況下，天津hipace 80，25℃氧分子的入射頻率是2.72×1018 個/(m2·s)。排列于固體表面的原子數(shù)大約是1019 個/m2，hipace 80維修，只要幾秒鐘的時間，hipace 80真空泵，表面所有的原子都會受到氧分子的碰撞。

　　如果氣體分子的平均自由程和容器的尺寸相同或更長，則氣體分子和容器壁碰撞的次數(shù)要比氣體分子之間的碰撞次數(shù)要多，這種狀態(tài)被稱為分子流(圖1.3(a))。如果平均自由程比較短，氣體分子之間的碰撞次數(shù)比氣體分子和容器壁的碰撞次數(shù)多，這種狀態(tài)被稱為黏性流(圖1.3(b))。黏性流的氣體分子在管路中被排出時，中心軸的流速-，靠近管壁的流速逐漸減小。

水環(huán)泵的特點-優(yōu)點（一）

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