化學(xué)鍍鎳、靖誠(chéng)化學(xué)鍍鎳技術(shù)、工件化學(xué)鍍鎳

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化學(xué)鍍又稱為無(wú)電解鍍（electroless plating），也可以稱為自催化電鍍（autocatalytic plating）[1]。具體過(guò)程是指：在一定條件下，水溶液中的金屬離子被還原劑還原，化學(xué)鍍鎳廢水預(yù)處理，并且沉淀到固態(tài)基體表面上的過(guò)程。astm b374（astm，化學(xué)鍍鎳公司，美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)）中定義為autocatalytic plating is “deposition of a metallic coating by a controlled chemical reduction that is catalyzed by the metal/alloy being deposited”。這一過(guò)程與置換鍍不同，化學(xué)鍍鎳，其鍍層是可以不斷增厚的[2]，且施鍍金屬本身也具有催化能力。

     屏蔽鍍層要有-的導(dǎo)電、導(dǎo)磁性能。通常表面電阻小于1歐姆/平方厘米的鍍層可作為電子和電磁儀器防電磁干擾的屏蔽層。屏蔽效果達(dá)30db-60db，可滿足一般工業(yè)用電子設(shè)備的要求，屏蔽效果達(dá)60db-90db可滿足精密儀器及-設(shè)備的要求。

對(duì)電磁屏蔽層的要求有如下幾點(diǎn)：

（1）屏蔽值。這是首先要考慮的指標(biāo)。鍍層的屏蔽值可按下表進(jìn)行分類。當(dāng)鍍層具有40db以上的屏蔽值時(shí)，95％的一般市售產(chǎn)品都可滿足國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的要求。

（2）-性。要求鍍層在使用過(guò)程中屏蔽能力基本不降低，附著力保持-。鍍層如有脫落，不但影響屏蔽性能，而且落入儀器內(nèi)部有可能造成短路事故。

（3）脆性。要求鍍層按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行沖擊試驗(yàn)后，新型化學(xué)鍍鎳工藝，不應(yīng)有剝落。

（4）其他。除上三條基本要求外，還應(yīng)考慮鍍層的均勻性(不均勻會(huì)引起部分屏蔽性能不一致)和耐磨性。從施工上看，還有成本、對(duì)環(huán)境的污染、對(duì)不同產(chǎn)品(尺寸大小、基材種類)的加工適應(yīng)性、操作是否簡(jiǎn)便等因素需要考慮

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