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十一、 真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,mbe分子束外延,pld激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜設(shè)備的操作參照該設(shè)備說明書和真空鍍膜機(jī)上各旋鈕下的標(biāo)注說明以及儀表盤指針顯示。大體情況如下:
1.檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在關(guān)位置。
2.打開總電源開關(guān),浙江真空鍍膜機(jī)器,真空鍍膜設(shè)備送電。
3.低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,浙江工具真空鍍膜機(jī),鐘罩升起。
4.安裝固定鎢螺旋加熱子。把pvdf薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,-無任何雜質(zhì)污物。
5.落下鐘罩。
6.啟動真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。
7.開復(fù)合真空計電源(復(fù)合真空計型號:fzh-1a)。
8.當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。
9.真空鍍膜設(shè)備開通冷卻水,啟動擴(kuò)散泵,浙江實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī),加熱40min。
10.低壓閥拉出。重復(fù)一次動作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動,瑞安真空鍍膜機(jī),當(dāng)指針移動至6.7pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉(zhuǎn))。
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