氮化硅原料|豫北冶金廠|氮化硅

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氮化硅物理性質(zhì)：莫氏硬度9~9.5，維氏硬度約為2200，顯微硬度為32630mpa。熔點(diǎn)1900℃（加壓下）。通常在常壓下1900℃左右分解。比熱容0.71j/(g·k)。生成熱為-751.57kj/mol。熱導(dǎo)率為（2-155）w/(m·k)。線膨脹系數(shù)為2.8~3.2×10-6/℃(20~1000℃)。

氮化硅其他應(yīng)用：氮化硅還能應(yīng)用到太陽能電池中。用pecvd法鍍氮化硅膜后，不但能作為減反射膜可減小入射光的反射，氮化硅原料，而且，氮化硅，在氮化硅薄膜的沉積過程中，反應(yīng)產(chǎn)物氫原子進(jìn)入氮化硅薄膜以及硅片內(nèi)，起到了鈍化缺陷的作用。

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