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-法是用mg2si與nh4cl在液氨中反應(yīng)生成-。該法由于原料消耗量大,成本高,危險(xiǎn)性大,而沒(méi)有推廣,現(xiàn)在只有日本komatsu使用此法。現(xiàn)代-的制備采用歧化法,即以冶金級(jí)硅與sicl4為原料合成-,首先用sicl4、si和h2反應(yīng)生成sihcl3 ,然后sihcl3 歧化反應(yīng)生成sih2cl2,-由sih2cl2 進(jìn)行催化歧化反應(yīng)生成sih4 原生多晶硅回收價(jià)格,
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據(jù)-,在50~60微米多晶硅襯底上制作的電池效率超過(guò)16%。利用機(jī)械刻槽、絲網(wǎng)印刷技術(shù)在100平方厘米多晶上效率超過(guò)17% 多晶硅回收,無(wú)機(jī)械刻槽在同樣面積上效率達(dá)到16%,采用埋柵結(jié)構(gòu) 多晶硅回收工序,機(jī)械刻槽在130平方厘米的多晶上電池效率達(dá)到15.8%。
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