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低溫冷卻液循環(huán)泵應(yīng)用范圍:
對半導(dǎo)體制造裝置-部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印-、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置-部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的-部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、-激光加工機(jī)等。
用于其他產(chǎn)業(yè)的機(jī)械冷卻設(shè)備有:精密研磨機(jī)、自動包裝機(jī)、鍍金槽、射出成型機(jī)、等離子熔接等。
低溫冷卻液循環(huán)泵采用壓縮制冷方法的循環(huán)泵設(shè)備,可直接冷卻試管、反應(yīng)瓶等進(jìn)行低溫下的化學(xué)反應(yīng) 低溫冷卻液循環(huán)泵價(jià)格,進(jìn)行化學(xué)品和生物制品低溫貯存,也可結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式多用真空泵等配套使用。
設(shè)備內(nèi)的所有電器控制元件均放置在隔爆型的電器箱內(nèi) 低溫冷卻液循環(huán)泵規(guī)格,外部沒有任何電器控制部件。采用特殊定制的隔爆型冷凝風(fēng)機(jī)和大流量的隔爆型循環(huán)水泵,使整個(gè)設(shè)備達(dá)到-環(huán)境的使用要求,所采用的防爆電器均帶有的-。
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