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半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài) 原廠-，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、-殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，-影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起-漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、-、微生物、有機膠體纖維等，會導(dǎo)致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。

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自動化和計算機等技術(shù)發(fā)展，使硅片（集成電路）這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價已降到十分低廉的程度。一臺微型電子計算機的售價，也只不過數(shù)百元-。這樣就為電子計算機進入千家萬戶鋪平了道路。使我們的生活越來越現(xiàn)代化。

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