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磅礴電子(圖)|收購(gòu)8寸藍(lán)膜晶圓|8寸藍(lán)膜

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    2015-1-22

楊先生
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讓硅片變得更薄同樣可以減少硅原料消耗。在過(guò)去的十多年中,硅片厚度將變成 100μm. 減少硅片厚度帶來(lái)的效益是-的,從330μm 到 130μm,光伏電池制造商多可以降低總體硅原料消耗量多達(dá)60%。

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由熱氧化法生成sio2 緩沖層,用來(lái)減小后續(xù)中si3n4對(duì)晶圓的應(yīng)力氧化技術(shù):干法氧化si(固)+o2 à sio2(固)和濕法氧化si(固)+2h2o à sio2(固)+2h2。干法氧化通常用來(lái)形成 8寸藍(lán)膜,柵極二氧化硅膜,要求薄,界面能級(jí)和固定電荷密度低的薄膜。干法氧化成膜速度慢于濕法。


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