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沉積效率較高,-適合沉積厚膜涂層。與電鍍、化學(xué)鍍、離子鍍、氣相沉積等技術(shù)相比,熱噴涂的沉積率較高、生產(chǎn)-,且涂層厚度能夠控制,可從幾十微米到幾毫米,甚至更厚。
(5)對(duì)基體材料的熱影響小。與熱擴(kuò)散滲鍍、氣相沉積、高溫合成、燒結(jié)等工藝相比,除噴焊外,熱噴涂對(duì)基體的熱影響很小,基體受熱溫度一般不超過(guò)200度,因而基體材料不會(huì)發(fā)生組織、性能變化,不會(huì)產(chǎn)生變形。
(6)調(diào)整涂層成分比較容易?梢酝ㄟ^(guò)調(diào)整涂層材料的種類(lèi)、配比及涂覆工藝等,比較容易地實(shí)現(xiàn)涂層成分和涂層性能的調(diào)整。
(7)容易對(duì)制品進(jìn)行局部強(qiáng)化或改性。能夠在制品的局部進(jìn)行噴涂,實(shí)現(xiàn)局部表面強(qiáng)化和改性。還可通過(guò)脫模,制造無(wú)基體的薄壁件、空心件和形狀復(fù)雜的工件。
(8)節(jié)約貴重材料。在滿足強(qiáng)度要求的前提下,基體材料可以選用較普通的材料代替貴重的整體材料,僅表面涂層使用貴重材料。
(9)方便維修。熱噴涂操作靈活,工藝相對(duì)簡(jiǎn)便,適應(yīng)性強(qiáng),廣泛應(yīng)用開(kāi)各種裝備和部件的維修。涂層損壞后,可以除去重新噴涂修復(fù),基體材料能夠充分利用。
等離子噴涂簡(jiǎn)介:
在高溫表面處理工藝中,當(dāng)某種氣體如氮、氬、氫及-等通過(guò)一壓縮電弧時(shí)產(chǎn)生電離而形成電中性的等離子體(是物質(zhì)除氣、液、固態(tài)外的第四態(tài)) 陶瓷噴涂-,等離子弧的能量集中溫度-,其焰流的溫度在一萬(wàn)攝氏度以上,可以將所有固態(tài)工程材料熔化。以這種高溫等離子體作熱源將涂層材料熔化制備涂層的工藝就是等離子噴涂。等離子噴涂是-熱噴涂工藝中的手段之一,該方法-適合噴涂各種高熔點(diǎn)陶瓷、難熔金屬和金屬陶瓷等噴涂材料。
常見(jiàn)的應(yīng)用 :
牽引設(shè)備表面
輥筒表面
大多數(shù)-熱噴涂場(chǎng)合
方 法 :
等離子噴涂系統(tǒng)可以在盡可能減少浪費(fèi)和過(guò)噴涂的情況下,將噴涂顆粒加熱并噴射到工件表面。等離子電弧噴槍主要作用是將粒子加熱到足夠高的溫度,在沖擊基底材料前,將噴涂顆粒軟化并使其牢牢附著在工件表面外側(cè)。它的工作原理是,通過(guò)將-電流的電極,連接到中間電極和同軸噴嘴,在兩者之間產(chǎn)生一個(gè)超過(guò)10000攝氏度的電弧,伴隨在電弧電極軸心外加的高流動(dòng)性惰性氣體如氬或- 陶瓷噴涂,將等離子流噴射出槍口,同時(shí)在接近噴嘴前端的位置將粉料注入高溫等離子焰流 陶瓷噴涂工藝,高溫電弧氣流和粉料攜帶氣流在等離子焰流的加溫下急劇擴(kuò)張,隨后迅速推動(dòng)高溫粉料顆粒噴出。
實(shí) 踐 :
等離子系統(tǒng)初的參數(shù)需要-設(shè)置,一旦設(shè)置完成,噴槍可以以標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)持續(xù)運(yùn)行數(shù)個(gè)小時(shí)。這個(gè)優(yōu)點(diǎn)使得等離子噴涂工藝可以近乎無(wú)間斷地為大型工件進(jìn)行表面處理,其間僅需檢查噴嘴狀態(tài)及其它常規(guī)核查。等離子噴涂會(huì)比電弧或氧焰噴涂具備-的氧含量和孔隙率。
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