廉江市鍍膜|錦城鍍膜|鍍膜和封釉

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熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。 置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。 在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等） 鍍膜機，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2pa，對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜要求-的場合，則要求壓力-（ 10-5pa ）。 鍍層厚度0.04-0.1um太薄 鍍膜和封釉，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。
從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度-提高。
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